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asml光刻机有没有中国零件解读_一台7nm光刻机的价格(2024年12月精选)

内容来源：零配件导航所属栏目：新闻更新日期：2024-11-29

asml光刻机有没有中国零件

阿斯麦业绩“暴雷”，跌超16% 光刻机巨头阿斯麦（ASML）第三财季订单额为26.3亿欧元，市场预期为53.9亿欧元，股价暴跌16.26%，报730.43美元，市值2873.7亿美元。据统计这是公司自1998年以来最大的单日跌幅。没有了中国订单，阿斯麦的高成长宣告结束，股价面临戴维斯双杀。

阿斯麦CEO：断供EUV，就是为了阻止中国获得先进技术，中国光刻机落后10-15年，没有我们的帮助，中国几乎不可能造出3-5nm芯片。从这段采访内容可以知道另一个事实，那就是阻止我国发展光刻机的不仅仅是美国，而是整个西方，包括ASML本身，也就是说他们宁愿不赚钱，也不会把EUV卖给我们。现阶段我们确实没有EUV，确实造不出3-5nm芯片，但差距并没有他说的10-15年那么长，当初断供华为的时候，手机芯片处于5nm阶段，那时候西方媒体还说我们落后十年，结果三年后麒麟9000S就突然商用，直接惨遭打脸。国产光刻机就是在西方国家技术封锁下一步步实现突破，时间会证明，国产EUV终将突破，到时候阿斯麦的光刻机白菜价也卖不出去。

发现一个怪象，国产产品部件自己不生产就叫卡脖子，国外产品任何部件依靠进口，就是利润太低人家不愿意生产！仔细想想，从最早的打火机垫片、圆珠笔尖，再到前两年疫情时的熔喷头、呼吸机核心器件，好像都是如此。在这个现象上，我觉得专栏作家杜建国的一句话很有道理，炮制并沉浸于“中国卡脖子论”，是多年积习！一个很简单的道理，很多不是那么核心的产品、技术，就没有自己去做的必要，就像ASML公司的光刻机，其所需要的零部件来自全球几十个国家，很多都可以生产，但是把这些零部件组装到一块，却只有ASML可以做到。再拿圆珠笔尖来说，这种东西利润很小，没必要在上面花费时间。但是我们要做的话也不是难事，2017年中国太钢集团不就出手炼了一炉，结果全世界的市场就饱和了。而且我们不但能造笔芯，就算是生产一款完全是中国制造的中性笔，对于我们来说也不是难事。最近淘工厂就联合温州一家制笔厂造出了太钢笔尖中性笔，并且在双11大促期间首发，直接成为了平台热销产品，单日热销2000支。这款国产中性笔从笔尖到笔壳，都是中国制造，这些在包装上也都有醒目的提示，当然最关键的是书写体验完全不输于进口。而为了让更多人知道国产原创好货，淘工厂也将“中国芯”推到了厂牌专区的首页。很多人不知道的是，淘工厂帮助厂商解决了销售的后顾之忧，让合慕这样的老牌厂商有底气，去定制一款原材料完完全全属于中国制造的中性笔。说实在的，很多时候我们要正视与国外的差距，但是也不用妄自菲薄，要看到我们自己的进步。

国产光刻机重大突破的意义：1.全面国产化，不惧西方制裁。虽然国产光刻机只是荷兰ASML公司20年前的水平，可中国是在特朗普对中国实施制裁之后短短几年就研制出的成果。这是中国用非美的工艺和产业生态研制出来的，这是很牛逼的，做为ASML自身他生产的光刻机当中镜头是德国蔡司的，很多当中的技术是美国，而中国这套技术是我们自己的，以后美国再延伸制裁你是够不到的。 2.同时也能让ASML应该好好想想如何面对中国？下一步应该如何去走？虽然现在量产的东西暂时不如你，可实验室当中正在研制的是什么水平？假如再给中国几年时间，如果我们的产品继续迭代，中国市场还需不需要你们的光刻机?你是紧抱美国大腿，挣几年快钱还是说跟中国好好合作细水长流呢？ 3.让荷兰明白不是你有我没有，我就随意能被你制裁而无法还手！美国让荷兰将中荷已经签订合约商业合同撕毁，合同内容是关于荷兰已经出售给我们的28纳米、14纳米光刻机的配件以及维保服务。荷兰这种完全没有契约精神的不当人举动，我们是不是也可以用相应的手段对付你？没收一下荷兰在中国的一些资产，让他们知道不当人的下场。 4.让周边地区这些中等规模的国家明白一下，像荷兰菲律宾这样的国家一直跟着美国这么跳，对你们自身有没有什么好处？当他们受到损失的时候也是警告你们不要火中取栗，把老实人逼急了可是没有你们好果子吃的！

ASML巨头遇困，Mate60滑坡最近，荷兰的ASML公司，这个光刻机领域的巨头，引起了大家的广泛关注。自2024年3月起，ASML多次传出可能迁移总部的消息。这背后的原因，既有国际环境的复杂变化，也有荷兰国内政策的影响。值得一提的是，华为Mate70新机的曝光导致Mate60的价格持续走低。业内人士称这是智能机价格史上里程碑的事件！ ASML的困境，一方面源自美国芯片禁令的制约，这使得ASML的营收受到直接影响，特别是失去了中国市场这一重要收入来源。

ASML财报发布，营收刚刚达到预期下限……没有了中国光刻机市场真的已经饱和了

太可惜！上世纪七八十年代，我国自研光刻机一度领先国际，那时ASML还没问世。如今几十年过去了，ASML在霸主地位几乎无人能敌，可中国呢？那时究竟发生了什么？（信息来源：《军情|我国光刻机曾领先国际，那时还没荷兰ASML，80年代惨遭下马》——迷彩虎说）随着中国在科技领域的不断发展，美国感受到了威胁。为此在这几年当中，美国不断的想尽办法制裁我国，华为就是很好的例子。可是令美国失望的是，中国人身上似乎安装了强力弹簧。美国越是用力压低我国，中国就反弹的更加厉害。说起中国在科技领域上的发展，现如今已经到了世界顶尖的位置。可是这并不代表我国科技已经达到顶峰，至少在光刻机领域我们还存在很大的问题。说起光刻机的发展最厉害的要属于荷兰的ASML公司，它基本上已经实现了全球性的垄断，其先进的制程工艺其他国家根本无法比拟。中国也从未放弃过对光刻机技术的突破，可是从目前我国的发展来看，还存在很大的弊端。其实令大家想不到的是，中国也曾在光刻机领域有过一段辉煌时期。大概是在上个世纪七十年代末八十年代初的时候，我国自己研制的光刻机已经有了很好的成果。在当时荷兰还没有发展起来光刻机，就连美国也没有这项技术。中国在那个时间里是具有国际水平的，然而这种辉煌的成绩并没有持续太久。我国发展光刻机技术是比较早的，但是并没有做到与时俱进。随着与时代发展越来越不符合，我国的光刻机也发现了很多的问题。在快时代发展当中，中国光刻机无法实现更好的突破。而我国为了能够不再科技领域被他国落下，只能放弃光刻机的发展，从其他外来国家进行进口。美国为了打压中国的科技发展，还和其他国家一起签署了《瓦森纳尔协定》，想要把中国技术封锁在最低部。那个时期我国科技发展真的很艰难，处处都是坎坷，好像看不到曙光的样子。国际上的压迫，市场的强烈竞争将中国科技推到了一个无法前进的道路上。也是这个时候荷兰奋起直追，快速发展成为了世界上名列前茅的存在。从近些年国际上的发展，科技占据了很重要的位置。如果当年我国没有轻易的放弃光刻机的发展，可能现在我们也有了更好的空间。虽然现在来看是有些可惜的，但是也没有值得后悔。任何一个国家的发展都会遇到很多的挑战，我们不可能保证哪一个事情都能做出最完美的决定。但是中国人身上有一点是非常棒的，就是我们绝不会轻言放弃。可以失败但是绝不会认输，只要我们一直坚持不懈的努力，总有一天会看到曙光。通过各国之间的科技战，也让我们有了深刻的感悟。只要落后就会受到他人的欺辱，所以无论是在各个领域当中，我们都要奋起直追，成为了最优秀的国家。未来相信我国的发展会越来越好！

近年来，中国在半导体领域的发展迅速，尤其在DUV光刻机领域的技术突破，引起了国际社会的广泛关注。在众多讨论中，一则美国网友发出的“没有得到美国的允许，为何中国敢私自研发DUV光刻板”的留言，一定程度上折射出美国对中国光刻机领域的发展并不支持。那么，在美国对中国实施技术封锁和出口管制的大背景下，中国为何能够在没有美国允许的情况下，独立研发出DUV光刻机？这背后不仅是技术积累的成果，更反映了中国在高端制造业崛起的决心。光刻机介绍光刻机（Photolithography Machine），作为制造半导体芯片的关键设备，其作用原理有点类似于我们生活中接触到的摄像，把拍到的照片事物印在底片上，即利用光线把光罩上的图案复刻在光刻板上，形成电路图案。关于光刻机的精度，它直接决定了芯片的制程节点（即芯片的微小尺寸）。因此，光刻机也被誉为半导体产业的“皇冠上的明珠”。光刻机的出现可以追溯到上世纪四十年代，目前主要根据所使用的光源波长进行分类，最常见的是深紫外线DUV（Deep Ultraviolet Lithography）和极深紫外线EUV（Extreme Ultraviolet Lithography），前者广泛应用于28纳米至7纳米的芯片制造，而后者主要用于制造7纳米及以下工艺节点的芯片，全球主要的光刻机制造商是荷兰的ASML，它几乎垄断了EUV光刻机的市场。而DUV光刻机市场则由ASML、尼康（Nikon）和佳能（Canon）等公司占着大部分份额。由于技术壁垒极高，研发难度大和成本高，拥有光刻机的研发和生产工艺会被认为是一个国家具有最先进制造业的代表象征之一。中国光刻机的发展与挑战中国的光刻机研发并非一蹴而就，而是经过了多年的技术积累。首先，中国的半导体产业起步较晚，后来尽管中国在芯片设计和制造的其他方面取得了不少成就，在光刻机领域却发展十分缓慢。随着国家对半导体产业的战略重视，光刻机的研发也逐渐被纳入了国家级科技攻关重点，由此光刻机得到迅速发展。在上世纪七十年代，中国成功研制出了国内第一台光刻机，并且后面几十年内一直不断在寻求突破，研究方面积累了相当的经验成果。以2018年中国科学院光电技术研究所研制的“超分辨光刻装备”通过验收为例，在当时就颇受关注，可见中国光刻机领域的发展实力不可小觑。与此同时，我们要知道当时美国长期以来对中国的技术进步保持警惕态度，尤其是在半导体和高科技领域。在光刻机技术上，美国曾通过控制关键技术、出口管制等手段限制中国的技术发展。2018年，美国政府更是将ASML等公司列入实体清单，禁止它们向中国提供EUV光刻机。这一措施虽然短期内对中国光刻机研发产生了影响，但也催生了中国自主创新的动力。中国政府积极推动自主研发，提供政策支持，并加大科研资金的投入。通过产学研结合，鼓励企业和科研机构合作，逐步克服了设备技术的瓶颈。除了光刻机技术外，中国还加快了半导体材料、光刻胶等领域的研发，力求突破关键环节。目前，国内的DUV光刻机领域发展整体呈上升趋势，主要研发力量有中科院微电子研究所、上海微电子装备（集团）公司（SMEE）等单位。其中，SMEE是中国目前唯一能够生产DUV光刻机的企业。 SMEE在自主研发中，克服了光刻机核心部件的制造难题，逐步提升了设备的性能和产量。根据最新消息显示，我国又新推出了两台国产KrF、ArF光刻机，这无疑是海外出口被管制背景下中国取得的可喜成果，意义十分重大。中国敢“私自”研发DUV光刻机的原因中国敢于在没有得到美国允许的情况下研发DUV光刻机，是建立在多年的技术积累和自主创新的决心的基础之上而做出的举动。中国通过加强高技术人才的培养、研发投入的增加以及政策的支持，一定程度上逐步提升了自己的技术研发能力。尽管面临国际封锁和技术壁垒，但中国的半导体产业仍然坚定地走上了自主创新之路。中国将半导体产业作为国家战略的重要组成部分，尤其在光刻机技术，已经将其列为“卡脖子”技术，重点突破。政府还通过出台相关产业发展的支持政策，鼓励相关企业在光刻机研发方面取得进展。政策的支持和国家战略的引导，使得中国敢于在全球竞争的背景下推动自主研发。尽管美国和其盟国对中国的科技崛起保持警惕，但也有一些国家和地区愿意与中国进行合作，尤其是在光刻机技术的非核心领域。荷兰ASML虽然受到美国压力，但在DUV光刻机方面仍然有一些合作空间，这使得中国能够通过合作、引进和自主研发相结合的方式，逐步缩短与国际先进水平的差距。 #我要上热门#

台积电通知其中国客户，从下周开始，所有 7nm 及以下芯片出货将停止。如何看待这一行为？目前的局面就是，台积电和三星都不会再承接来自中国的，7纳米及以下芯片的订单了。而中国自己的7纳米芯片的产能却微不足道，连一个华为的产能都吃不下来，就更不用说其他公司的芯片需求了。而且已经有报告证实，即便是国内的这些产量很少的7纳米产能，也是使用ASML生产的光刻机完成的。而中国自己的光刻机，目前只能做到65纳米，且这台65纳米的光刻机，实际上也没有做到商业化量产的水平。也就是说，哪怕65纳米的产能，现在也实际上还是在依靠外国的光刻机。现在ASML也已经不再向中国出售可以生产7纳米的光刻机了，而中国自家的光刻机一时半会也无法做到生产7纳米芯片的水平。所以，中国国内7纳米芯片的产能，在相当长的时间内就只有眼前这一点点了，连一个华为的需求都应付不下来。至此，因为芯片生产设备也是依赖外国，比如ASML的光刻机。所以，在芯片生产设备也被制裁的今天，中国就没有办法扩大7纳米芯片产能了。而台积电和三星也无法供货中国7纳米芯片了。所以中国高端芯片就只能是原地踏步了，甚至因为光刻机的厂家售后服务也被制裁波及，这个数量不多的7纳米产能也有可能会保不住。所以，国内这些芯片设计公司才是最尴尬的。他们现在是空有屠龙技，但龙却没有了。这要怎么办呀？

没有任何国家能做到！在一次采访中，物理学教授朱士尧谈及光刻机时发表了一番引人深思的言论。他表示，光刻机代表着一个国家整体实力，不仅中国，连美国都难以独立制造，中国想要造出光刻机难度极大，甚至称“不可能！永远也造不出来！”。作为全球最尖端科技之一，光刻机在半导体产业中占据核心地位，关乎国家命脉。半导体产业作为新型科技发展的关键领域，其发展水平深刻影响着一个国家在全球科技竞争格局中的地位。近年来，中国在科技创新道路上奋勇前行，在众多领域取得显著成就。高光谱综合观测卫星投入使用，有力保障了观测系统专项任务的推进并守护生态环境安全；天行一号 02 星的成功发射推动航天事业迈向新高度。在全球 64 项关键领域中，中国已在 57 项领域取得领先，彰显了强大的科研实力与创新能力。然而，光刻机却成为中国科技发展面临的一道难题。光刻机的主要功能是在硅片上绘制微小电路图案，这些图案直接决定芯片性能。其地位举足轻重，是国家科技能力与工业水平的重要标志，拥有先进的光刻机意味着该国科技处于顶尖行列。当前，全球仅有荷兰 ASML 公司能够制造光刻机，且其精度高达 1 纳米，内部构造极为复杂精密，部件精密度达到头发丝几千分之一级别。这台机器体积庞大，近似大型集装箱，其诞生是集结全球几十个国家尖端科技并在荷兰组装完成的成果，并非荷兰一国之力可为。因此，朱士尧教授才会断言，没有一个国家能够独立制造光刻机，中国也难以实现。不过，朱士尧教授也提到，尽管光刻机复杂，但中国会逐步拆解研究，毕竟这反映国家综合技术水平。对此，网友观点不一。部分网友认为中国已创造诸多奇迹，不应在研究伊始就如此悲观，这有贬低中国科技实力之嫌；而另一部分网友则主张应辩证看待，光刻机研发难度极高，需要时间积累与沉淀，不能仅靠口号。无论如何，我们应始终对国家科技实力满怀信心，期待在未来中国能够攻克光刻机这一难关，在全球科技前沿领域续写辉煌篇章。

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