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电铸用零件前沿信息_塑料配件厂家联系电话(2024年12月实时热点)

内容来源：零配件导航所属栏目：教程更新日期：2024-12-02

电铸用零件

「芯选Watchoosy」Greubel Forsey 20周年纪念，发布了品牌首款计时码表作品。在此之前，品牌已经推出过自鸣三问、一线天万年历、倾斜陀飞轮等特殊难度的功能。所以作为周年纪念的计时码表，自然也是与众不同。除了相对常规的飞行陀飞轮、垂直离合技术外，这一次最重要的是将品牌于2017年亮相的“微机械”加工技术进行了运用。图2、3就是其照片图纸，使用LIGA光刻技术，利用胶版和紫外线做出零部件外形，再电铸出来，这样的LIGA技术可以在批量生产的同时保证零件极高的精密度和表面光洁度。 Greubel Forsey利用这项技术制作零部件，将擒纵部分的跳动运动传递出来，做出了六分之一秒的跳秒。这种的工艺加工的零件，比传统的金属部件节约了1800倍的能量。限量11枚，定价380万人民币。

PMMA电子束光刻全流程详解 ### 1. 基片表面预处理 𐟧𜊊在MEMS光刻中，硅片因其表面粗糙度低、热膨胀系数小而常被用作基底。为了确保光刻胶涂覆均匀，需要对硅片表面进行化学清洗，随后用去离子水漂洗并干燥。旋涂光刻胶 𐟔„ 涂胶方法有旋涂法、喷涂法和定量滴胶法。由于PMMA黏度较大，涂覆厚度一般不大于1微米，通常采用旋涂法。将光刻胶滴在硅片中心处，使硅片高速旋转，光刻胶在离心力的作用下均匀铺满整个硅片。前烘 𐟔劊前烘可使光刻胶中的溶剂挥发，增强其与硅片之间的结合力。前烘过度会导致胶膜硬化，不利于内应力的消除；前烘不足则溶剂挥发不完全，胶膜出现缺陷，显影时存在浮胶现象。曝光 𐟌 曝光是电子束光刻工序中最复杂的一步，曝光的图形尺寸精度直接影响零件的尺寸精度。曝光剂量对曝光效果的影响最大。若曝光剂量不足，显影时会出现光刻胶残留在硅片表面，显影图案不完整、形状不规则。若曝光剂量过大，被曝光区域的PMMA光刻胶将呈现出负胶性质，显影后无法被去除。显影 𐟌ˆ 显影液可溶解光刻胶被曝光的部分（正胶）或未被曝光的部分（负胶），是产生图形的关键工艺。显影工艺的关键是显影液类型的确定和显影时间的控制，此外，显影液的配比、温度也会对图形质量产生明显影响。坚膜 𐟒ꊊ坚膜又称硬烘，目的是通过烘烤使光刻胶胶模中残留的显影液和定影液挥发出来，同时提高光刻胶与基片之间的结合力。烘烤的温度时间视光刻胶的种类及旋涂后的胶膜厚度而定。如果坚膜不到位可能会出现胶膜倒塌的情况。金属沉积及去胶 𐟏튊通过在光刻胶图案上回填器件设计所需的材料，例如沉积金属或非金属材料，去除多余的光刻胶后，就可以得到所需的器件。其原理类似于机械加工中的注塑。目前主要的金属沉积方式为微电铸、磁控溅射、蒸发镀膜等方法。但在微纳米尺寸的电铸中，由于电铸液表面张力的存在使其难以进入胶模，因此主要采用磁控溅射及热蒸发的方法。

PMMA电子束光刻全流程详解在MEMS光刻中，硅片因其表面粗糙度低、热膨胀系数小而常被用作基底。为了确保光刻胶涂覆均匀，需要对硅片表面进行化学清洗，然后用去离子水漂洗并干燥。 𐟔„ 旋涂光刻胶旋涂法、喷涂法和定量滴胶法是涂胶的几种方法。由于PMMA的黏度较大，涂覆厚度一般不大于1微米，通常采用旋涂法。将光刻胶滴在硅片中心处，使硅片高速旋转，光刻胶在离心力的作用下均匀铺满整个硅片。 𐟔堥‰烘前烘可使光刻胶中的溶剂挥发，增强其与硅片之间的结合力。前烘过度会导致胶膜硬化，不利于内应力的消除；前烘不足则溶剂挥发不完全，胶膜出现缺陷，显影时存在浮胶现象。 𐟌 曝光曝光是电子束光刻工序中最复杂的一步，曝光的图形尺寸精度直接影响零件的尺寸精度。曝光剂量对曝光效果的影响最大。若曝光剂量不足，显影时会出现光刻胶残留在硅片表面，显影图案不完整、形状不规则。若曝光剂量增大到一定程度，被曝光区域的PMMA光刻胶将呈现出负胶性质，显影后无法被去除。 𐟌€ 显影显影液可溶解光刻胶被曝光的部分（正胶）或未被曝光的部分（负胶），是产生图形的关键工艺。显影工艺的关键是显影液类型的确定和显影时间的控制，此外，显影液的配比、温度也会对图形质量产生明显影响。 𐟔砥š膜坚膜又称硬烘，目的是通过烘烤使光刻胶胶模中残留的显影液和定影液挥发出来，同时提高光刻胶与基片之间的结合力。烘烤的温度时间视光刻胶的种类及旋涂后的胶膜厚度而定。如果坚膜不到位可能会出现胶膜倒塌的情况。 𐟛 ️ 金属沉积及去胶通过在光刻胶图案上回填器件设计所需的材料，例如沉积金属或非金属材料，去除多余的光刻胶后，就可以得到所需的器件。其原理类似于机械加工中的注塑。目前主要的金属沉积方式为微电铸、磁控溅射、蒸发镀膜等方法。PMMA胶易溶于丙酮，选用丙酮作为去胶剂溶解光刻胶，光刻胶溶解后薄膜悬空，可使用超声波清洗机将悬空的金属薄膜去除，这样硅片上就只保留了我们需要的金属MEMS器件。

9SA5机芯揭秘：LIGA黑科技日系手表的机芯一直以来都以其高科技含量受到钟表爱好者的青睐，其中Grand Seiko的9SA5机芯就搭载了一项名为LIGA的黑科技。这项技术不仅在劳力士和西铁城的产品中有所应用，还在微型机械领域大放异彩。今天，我们就来深入探讨一下这枚机芯背后的LIGA技术。 LIGA技术是一种增材制造工艺，它通过在微型树脂模具内的圆盘上进行电镀，生产出金属部件。从精密模具开始，可以制造出具有复杂几何形状且同样精密的金属零件，并且能够大量生产。这使得该工艺非常适合制造大量需要的齿轮。该过程从生产所需部件的精确掩模开始（每个掩模将生产几十个相同的部件）。将基版放在光盘上的一层薄薄树脂上，然后将其在X射线或紫外线下进行曝光。在生产手表零件时，UV紫外线照射更为实用和常见，这就是为什么该过程在钟表制作中通常被称为UV-LIGA。这项工艺能够制作出令人难以置信的形状，是现代半导体制造技术的产物，称为微机电系统（MEMS）。MEMS技术的发展始于1960年代，随着半导体技术的发展而发展起来。MEMS是对微观机械和电子元件的融合，这项技术最近在微机械方面和制表业使用颇多。被称为LIGA的MEMS工艺是Lithographie、Galvanoformung、Abformung（“光刻、电镀、成型”）的德语首字母缩写词，该技术常负责制造机芯中的复杂轮。简单而言，LIGA就是两项技术的融合：光刻技术和微机械里的电铸方式。 9SA5机芯拥有新型擒纵系统，擒纵轮是利用微机电技术打造的，重量比其他的擒纵轮少了5%。这非常重要，因为重量越轻，需要用来推动它的力量就会越小，而动力就可以保用更久。即使是在高振频机芯之中以较高的速度转动的状态下，MEMS也可以让擒纵轮保留更多润滑剂，因此也使擒纵机构的寿命变得更长。擒纵叉也是运用微机电技术制造的，可达到25%的轻量化，有效减少动力浪费。传统上擒纵轮和擒纵叉无法跟上摆轮的高震荡速度，因此一旦摆轮的振动速率提升，动能传递的效率就会随之降低。为了解决这个难题，Caliber 9SA5机芯采用了MEMS组件，提高了擒纵系统的传导效率，与双发条盒结构连接后便可在10震动机芯上实现长达80小时的动储。通过这些技术的应用，Grand Seiko 9SA5机芯不仅在性能上有了显著提升，还在制表工艺上展现了极高的科技水平。

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