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电铸主要加工哪些零件下载_电铸主要加工哪些零件最好(2024年12月最新版)

内容来源：零配件导航所属栏目：新闻更新日期：2024-11-30

电铸主要加工哪些零件

「芯选Watchoosy」Greubel Forsey 20周年纪念，发布了品牌首款计时码表作品。在此之前，品牌已经推出过自鸣三问、一线天万年历、倾斜陀飞轮等特殊难度的功能。所以作为周年纪念的计时码表，自然也是与众不同。除了相对常规的飞行陀飞轮、垂直离合技术外，这一次最重要的是将品牌于2017年亮相的“微机械”加工技术进行了运用。图2、3就是其照片图纸，使用LIGA光刻技术，利用胶版和紫外线做出零部件外形，再电铸出来，这样的LIGA技术可以在批量生产的同时保证零件极高的精密度和表面光洁度。 Greubel Forsey利用这项技术制作零部件，将擒纵部分的跳动运动传递出来，做出了六分之一秒的跳秒。这种的工艺加工的零件，比传统的金属部件节约了1800倍的能量。限量11枚，定价380万人民币。

PMMA电子束光刻全流程详解 ### 1. 基片表面预处理 𐟧𜊊在MEMS光刻中，硅片因其表面粗糙度低、热膨胀系数小而常被用作基底。为了确保光刻胶涂覆均匀，需要对硅片表面进行化学清洗，随后用去离子水漂洗并干燥。旋涂光刻胶 𐟔„ 涂胶方法有旋涂法、喷涂法和定量滴胶法。由于PMMA黏度较大，涂覆厚度一般不大于1微米，通常采用旋涂法。将光刻胶滴在硅片中心处，使硅片高速旋转，光刻胶在离心力的作用下均匀铺满整个硅片。前烘 𐟔劊前烘可使光刻胶中的溶剂挥发，增强其与硅片之间的结合力。前烘过度会导致胶膜硬化，不利于内应力的消除；前烘不足则溶剂挥发不完全，胶膜出现缺陷，显影时存在浮胶现象。曝光 𐟌 曝光是电子束光刻工序中最复杂的一步，曝光的图形尺寸精度直接影响零件的尺寸精度。曝光剂量对曝光效果的影响最大。若曝光剂量不足，显影时会出现光刻胶残留在硅片表面，显影图案不完整、形状不规则。若曝光剂量过大，被曝光区域的PMMA光刻胶将呈现出负胶性质，显影后无法被去除。显影 𐟌ˆ 显影液可溶解光刻胶被曝光的部分（正胶）或未被曝光的部分（负胶），是产生图形的关键工艺。显影工艺的关键是显影液类型的确定和显影时间的控制，此外，显影液的配比、温度也会对图形质量产生明显影响。坚膜 𐟒ꊊ坚膜又称硬烘，目的是通过烘烤使光刻胶胶模中残留的显影液和定影液挥发出来，同时提高光刻胶与基片之间的结合力。烘烤的温度时间视光刻胶的种类及旋涂后的胶膜厚度而定。如果坚膜不到位可能会出现胶膜倒塌的情况。金属沉积及去胶 𐟏튊通过在光刻胶图案上回填器件设计所需的材料，例如沉积金属或非金属材料，去除多余的光刻胶后，就可以得到所需的器件。其原理类似于机械加工中的注塑。目前主要的金属沉积方式为微电铸、磁控溅射、蒸发镀膜等方法。但在微纳米尺寸的电铸中，由于电铸液表面张力的存在使其难以进入胶模，因此主要采用磁控溅射及热蒸发的方法。

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